Effect of deposition rates of PECVD silicon nitride films on passivation for silicon solar cells

이준성 ,  임희진 ,  권순우 외 2명

한국신·재생에너지학회 학술대회 초록집

2008 .05

PECVD 실리콘질화막에 대한 이온빔 방사효과

이상환 ,  이중환 ,  서경수 외 2명

한국재료학회 학술발표대회

1993 .01

Thin Film Encapsulation for Flexible Electronics using Silicon Nitride deposited by PECVD

김래호 ,  윤원민 ,  김유진 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2012 .04

Remote PECVD와 Direct PECVD에 의해 증착된 실리콘 산화막의 특성 평가 ( Evaluation of Silicon Oxide Films Deposited by Remote PECVD and Direct PECVD )

정윤권 ,  정문식 ,  강봉구

대한전자공학회 학술대회

1991 .11

태양전지 응용을 위한 PECVD 실리콘 질화막 증착 및 열처리 최적화

柳鎭洙 ,  Kuma ,  Dhungel 외 1명

전기학회논문지 C

2006 .12

Si3N4 기판 위에 PECVD 법으로 형성한 Tungsten Nitride 박막의 특성 ( Characteristic of PECVD-WNx Thin Films Deposited on Si3N4 Substrate )

배성찬 ,  박병남 ,  손승현 외 2명

전자공학회논문지-D

1999 .07

플라즈마 화학 증착된 질화 규소 미소 구조물의 탄성 계수 측정

김재현 ,  이학주 ,  한승우 외 3명

대한기계학회 춘추학술대회

2005 .05

고 에너지 이온빔에 의한 PECVD 질화규소막 내의 수소 이탈현상에 관한 연구

이중환 ,  이상환 ,  박민 외 2명

한국재료학회 학술발표대회

1994 .01

비휘발성 기억소자용 PECVD질화막의 특성에 관한 연구

李相培 ,  李根赫 ,  徐光烈

전기학회논문지

1993 .12

PECVD 비정질 실리콘 증착 반응의 이론적 모델과 실험결과 ( Theoretical Model and Experimental Results of PECVD Amorphous Silicon Deposition Process )

김진홍 ,  남철우 ,  우성일 외 1명

전자공학회논문지

1990 .07

PECVD 비정질 실리콘 증착 반응의 이론적 모델과 실험결과 ( Theoretical Model and Experimental Results of PECVD Amorphous Silicon Deposition Process )

김진홍 ,  남철우 ,  우성일 외 1명

전자공학회논문지

1990 .06

The Effects of Impurities in Silicon Nitride Substrate on Tribological Behavior between Diamond Film and Silicon Nitride Ball

Dae Soon Lim ,  Jong Hoon Kim

Tribology and Lubricants

1995 .12

The Effects of Impurities in Silicon Nitride Substrate on Tribological Behavior between Diamond Film and Silicon Nitride Ball

Dae-Soon Lim ,  Jong-Hoon Kim

Lubricants Symposium

1995 .10

INFLUENCE OF SURFACE FILM PROPERTIES ACCORDING TO VARYING RADIO FREQUENCY FOR CRYSTALLINE SILICON SOLAR CELLS

Kyung Dong Lee ,  Soohyun Bae ,  Sungeun Pa 외 4명

AFORE

2012 .11

PECVD 법으로 증착된 silicon oxynitride 의 물성 분석

조유정 ,  한길진 ,  김영철

한국재료학회 학술발표대회

2005 .01

Co/GaAs 계면 반응에 미치는 GaAs 기판의 표면처리 영향

신동원 ,  박찬경 ,  곽준섭 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

1994 .01

Development of SPP Nitriding/PECVD DLC Combined Equipment

Jae Seung Lee ,  Yoon Choi ,  Kyoung Il Moon 외 3명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2011 .11

열처리 조건이 PECVD $Ta_{2}O_{5}$ 박막 특성에 미치는 영향

백용구 ,  박영진 ,  김종철 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

1992 .01

GaAs 기판위에 형성된 광여기 산화막의 물리적 특성 ( Physical Properties of Silicon Dioxide Film Deposited on GaAs by Photo Excitation )

편광의 ,  박형무 ,  김봉렬

전자공학회논문지

1989 .08

ECR PECVD에 의한 상온 실리콘 질화막 형성 및 박막 트랜지스터에의 응용 ( Room Temperature Fabrication of Silicon Nitride Films by ECR PECVD and its Application to Thin Film Transistors )

전유찬 ,  이호영 ,  주승기

대한전자공학회 학술대회

1992 .11