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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
이재석 (한양대학교 금속공학과) 신성모 (전자부품종합기술연구소) 박종완 (한양대학교 금속공학과)
저널정보
한국재료학회 한국재료학회지 한국재료학회지 제7권 제2호
발행연도
1997.1
수록면
102 - 106 (5page)

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이 논문의 연구 히스토리 (4)

1997

Micro Gas Sensor의 Membrane용 ${SiN}_{x}$막과 ${SiN}_{x}/\textrm{SiO}_{x}/{SiN}_{x}$막의 응력과 굴절율
이재석 ,  신성모 ,  박종완 한국재료학회지 1997.01 학술저널

1996

증착 조건이 $(AI, SI)_{1-x}O_x$박막과 Pt 박막의 물성 및 응력 변화에 미치는 영향
이재석 ,  박종완 한국재료학회지 1996.01 학술저널
Micro Gas Sensor의 Membrane용 $SiN_x$막과 $SiN_x/SiO_x/SiN_x$막의 응력과 굴절율
이재석 ,  박준식 ,  박효덕 외 2명 한국재료학회 학술발표대회 1996.01 학술대회자료
증착조건이 (Al, Sr)$_{1-x}O_x$ 박막과 Pt박막의 물성 및 응력변화에 미치는 영향
이재석 ,  박준식 ,  박효덕 외 2명 한국재료학회 학술발표대회 1996.01 학술대회자료

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박막형 접촉연소식을 포함한 마이크로 가스센서에서 membrane은 Si식각시 식각정지용으로서 또 센서 소자를 지지하는 층으로서 응력이 없어야 하며 이는 응력이 membrane파괴의 주 원인으로 작용하기 때문이다. 이에 따라 본 연구에서는 증착조건이 low pressure chemical vapor deposition(LPCVD)법과 sputtering법으로 제작된 $SiN_{x}$과 $SiN_{x}/SiO_{x}/(NON)$막의 응력고 굴절율 변화에 미치는 효과에 대한 실험을 행하였다. LPCVD의 경우 단일막인 $SiN_{x}$의 압축응력 및 굴절율을 나타내었다. Sputtering의 경우 $SiN_{x}$는 공정압력이 1mtorr에서 30torr까지 증가할수록 인가전력밀도가 $2.74W/cm^2$에서 $1.10W/cm^2$으로 감소할수록 응력값은 압축에서 인장으로 전환되었으며 본 실험에서 응력이 가장 낮게 나온 시편의경우 압축응력으로 $1.2{\times}10^{9}dyne/cm^2$가 공정압력 10mtorr, 인가전력밀도 $1.37W/cm^2$에서 얻어졌다. 굴절율은 공정압력이 1motorr에서 30motorr까지 증가할수혹 인가전력밀도가 $2.74W/cm^2$에서 $1.10W/cm^2$으로 감소할수록 감소하여 2.05에서 1.89의 변화를 보였다. LPCVD와 sputtering으로 증착된 막들은 모두 온도가 증가함에 따라 응력이 감소하였으며 온도감소시 소성적인 특성을 나타내었다.

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