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이용수
ABSTRACT
1. 서론
2. 이론
3. 수치적 절차
4. 수치 실험 결과 및 고찰
5. 결론
참고문헌
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CVD 반응로 내부 회전 원판 주위의 열 및 물질 전달 특성 연구
대한기계학회 춘추학술대회
2001 .09
Numerical Study on Flow and Heat Transfer in a CVD Reactor with Multiple Wafers
반도체디스플레이기술학회지
2018 .01
증착 균일도를 고려한 회전형 CVD 장치의 최적 운전조건 탐색
한국전산유체공학회 학술대회논문집
2012 .11
회전식 화학증착 장치 내부의 유동해석을 통한 최적 유량 평가
한국전산유체공학회지
2012 .03
수평 및 수직형 CVD 증착로의 실리콘 부착에 관한 수치해석 ( Numerical Analysis of Silicon Deposition in Horizontal & Vertical CVD Reactor )
대한기계학회 논문집 B권
2002 .03
Thermal CVD 반응기 내부의 열 유동장에 대한 수치해석적 연구
대한기계학회 춘추학술대회
2004 .08
고품질 질화물 반도체 박막 성장을 위한 반응로 구조 및 열적 조건에 관한 연구
대한기계학회 춘추학술대회
2004 .10
유입.유출구 크기 변화에 따른 CNT용 CVD 장비 내의 열 및 유동해석
반도체디스플레이기술학회지
2011 .01
CVD 반응로 내부 회전 원판 주위의 유동 특성 연구 ( A Study on the Flow Characteristics over the Rotating Susceptor in CVD Reactor )
대한기계학회 춘추학술대회
2001 .01
고품질 질화물 반도체 박막 성장을 위한 반응로 구조 및 열적 조건에 관한 연구
대한기계학회 논문집 B권
2004 .12
Si 선택적 성장을 위한 대형 CVD 반응기 내의 열 및 유동해석
반도체디스플레이기술학회지
2016 .01
회전식 화학증착 장치의 높은 증착 효율을 위한 최적 형상 전산해석연구
한국전산유체공학회 학술대회논문집
2013 .10
CVD 반응기내 기체유동의 균일성 향상에 관한 수치적 연구
대한기계학회 춘추학술대회
2004 .08
Heat and Mass Transfer in Continuous CVD Reactors
Heat Transfer Conference
1998 .08
A Study of Deposition Mechanism of Laser CVD SiO2 Film
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2003 .01
회전원판형 CVD 장치의 최적운전 조건에 대한 수치 연구
한국전산유체공학회 학술대회논문집
2012 .05
CVD Pt 박막의 증착과 특성 분석
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
CVD 반응기 내에서의 유동장에 대한 샤워헤드 지름의 영향에 대한 수치적 연구
대한기계학회 춘추학술대회
2004 .04
Multiple-inputs Dual-outputs Process Characterization and Optimization of HDP-CVD SiO2 Deposition
JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE
2011 .09
회전원판형 CVD 장치의 유동 재순환을 억제하는 출구부 형상 설계를 위한 전산해석
한국전산유체공학회지
2013 .12
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