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논문 기본 정보

자료유형
학술대회자료
저자정보
차관 (성균관대학교) 김윤제 (성균관대학교)
저널정보
대한기계학회 대한기계학회 춘추학술대회 대한기계학회 2001년도 열공학/유체공학 부문 공동 추계학술대회 논문집
발행연도
2001.9
수록면
441 - 446 (6page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

2001

CVD 반응로 내부 회전 원판 주위의 열 및 물질 전달 특성 연구
차관 ,  김윤제 대한기계학회 춘추학술대회 2001.09 학술대회자료
CVD 반응로 내부 회전 원판 주위의 유동 특성 연구 ( A Study on the Flow Characteristics over the Rotating Susceptor in CVD Reactor )
차관 ,  김윤제 ,  부진효 대한기계학회 춘추학술대회 2001.01 학술대회자료

초록· 키워드

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The transport properties of the convective flow motion in an atmospheric pressure CVD reactor(APCVD) are investigated using a numerical method. For the purpose of a uniform deposition rate on a substrate with a diameter 12 inches, a combinatorial optimization was carried out concerning the pressure, the mass-flow rate and the temperature. In order to get the optimal process parameters for the uniformity of deposition on a substrate, Navier-Stokes and energy equations have been solved for the pressure, mass-flow rate and temperature distribution in a CVD reactor. Using the Nusselt and Sherwood number, the heat and mass transfer performance on the susceptor are calculated. We also introduced an index for relative growth rate(RGR) to measure the flatness of the epilayer. Results show that the thermal boundary condition at the reactor wall has an important effect in the formation of buoyancy-driven secondary cell when radiation effect is considered. Results also show that reduction of the buoyancy effect on the heated reactor improves the uniformity of deposition.
#CVD(화학증착법) #Rotating susceptor(회전 기판 지지대) #Epilayer growth rate(박막 성장율) #Finite volume method(유한 체적법) #Plug flow(플러그 유동)

목차

Abstract
1. 서론
2. 이론적 배경
3. 수치 해석
4. 결과 및 고찰
5. 결론
후기
참고문헌

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윤용석 ,  홍혜정 ,  송명호 대한기계학회 논문집 B권 2008 .02

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