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이용수
Abstract
1. 서론
2. 이론적 배경
3. 수치 해석
4. 결과 및 고찰
5. 결론
후기
참고문헌
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2012 .05
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2004 .08
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1999 .06
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한국전산유체공학회지
2012 .03
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2013 .10
Thermal CVD 반응기 내부의 열 유동장에 대한 수치해석적 연구
대한기계학회 춘추학술대회
2004 .08
고품질 질화물 반도체 박막 성장을 위한 반응로 구조 및 열적 조건에 관한 연구
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2004 .12
수평 및 수직형 CVD 증착로의 실리콘 부착에 관한 수치해석 ( Numerical Analysis of Silicon Deposition in Horizontal & Vertical CVD Reactor )
대한기계학회 논문집 B권
2002 .03
Numerical Study on Silicon CVD in Horizontal Reactors
International Symposium on Transport Phenomena in Thermal Engineering
1993 .05
TRANSPORT PHENOMENA IN A HORIZONTAL COLD-WALL CVD REACTOR
KSME/JSME THERMAL and FLUID Engineering Conference
1996 .10
CVD Pt 박막의 증착과 특성 분석
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
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