Damage - Free Layer Control of MoS2 Using Atomic Layer Etching

지유진 ,  김기석 ,  김기현 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .02

원자층 식각기술

염근영

한국진공학회 학술발표회초록집

2015 .02

Surface Etching of Si(100) by Atomic Hydrogen

J. Y. Maeng ,  S. K. Jo ,  S. Kim

한국진공학회 학술발표회초록집

2000 .07

Layer-by-layer Control of MoS2 Thickness by ALET

김기현 ,  김기석 ,  염근영

한국진공학회 학술발표회초록집

2015 .08

Reactions between silicon precursors and surface sites during atomic layer deposition of silicon nitride

Luchana L. YUSUP ,  Jae-Min PARK ,  Ti 외 5명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

Density Functional Theory Study of Silicon Chlorides for Atomic Layer Deposition of Silicon Nitride Thin Films

Luchana L. Yusup ,  Sung-Joo Woo ,  Jae-Min Pa 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2014 .02

Anisotropic Atomic Layer Etching of W by Fluorination-Oxidation Cyclic Process

김두산 ,  김주은 ,  길유정 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .02

Enhancement of Electrical Properties of GaN-based Devices by Atomic Layer Etching

김두산 ,  길유정 ,  장윤종 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .08

Ar 중성빔을 이용한 ZrO₂ 원자 층 식각

박종윤 ,  임웅선 ,  박병재 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2009 .02

Etch Characteristics of MgO Thin Films in Cl2/Ar, CH3OH/Ar, and CH4/Ar Plasmas

Il Hoon Lee ,  Tea Young Lee ,  Chee Won Chung

한국진공학회 학술발표회초록집

2013 .02

Selective Etching of Magnetic Layer Using CO/NH₃ in an ICP Etching System

J. Y. Pa ,  k ,  S.-K Kang 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2010 .02

Atomic Layer Etching of Tungsten using NF₃/O₂ plasma

길유정 ,  김두산 ,  김주은 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2019 .08

Etching Characteristics of Au Film using Capacitively Coupled CF4/Ar Plasma

Kim ,  Gwang-Beom ,  Hong 외 1명

동굴

2007 .01

Ar 중성빔을 이용한 HfO₂ 원자 층 식각

임웅선 ,  박상덕 ,  배정운 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2007 .08

Atomic-layer superconductors

Shuji HASEGAWA

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

Etching characteristics of ZnO thin films using inductively coupled BCl₃ / Ar and Cl₂ / Ar plasma

S-W. Na ,  M-H. Shin ,  Y-M. Chung 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2004 .08

Low-Angle Forward Reflected 중성빔식각을 이용한 Aspect-Ratio-Dependent Etching 현상 제거

민경석 ,  박병재 ,  염근영 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2006 .02

Epitaxial $SnO_2$ Thin Films on Sapphire($1\bar{1}02$) and ($11\bar{2}0$) Deposited by Atomic Layer Deposition

Kim ,  Dai-Hong ,  Hong 외 1명

한국결정학회 학술연구발표회

2007 .01

Low Angle Forward Reflected Neutral Beam Etching System을 이용한 High Flux, Low Energy 중성빔의 형성

박병재 ,  이도행 ,  염근영

한국진공학회 학술발표회초록집

2004 .02

Role of N₂ flow rate on etch characteristics and variation of line edge roughness during etching of silicon nitride with extreme ultra-violet resist pattern in dual-frequency CH₂F₂/N₂/Ar capacitively coupled plasmas

권봉수 ,  정창룡 ,  이내응 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2010 .02