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중성빔 식각과 중성빔 원자층 식각기술을 이용한 TiN/HfO2 layer gate stack structure의 저 손상 식각공정 개발
한국진공학회 학술발표회초록집
2010 .02
Ar 중성빔을 이용한 ZrO₂ 원자 층 식각
한국진공학회 학술발표회초록집
2009 .02
Ne 중성빔을 이용한 InP의 원자층 식각에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2007 .08
Ar neutral beam을 이용한 ZrO₂ 원자 층 식각
한국진공학회 학술발표회초록집
2008 .08
C4F8/Ar 플라즈마를 이용한 SiO2 원자층 식각에서 활성종 구성 비율에 따른 식각 특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
C4F8/Ar 플라즈마를 이용한 SiO2 원자층 식각의 SiO2 두께 변화 해석 모델
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
Low angle forward reflection 중성빔 식각 장비를 이용한 high-k 유전체 물질의 식각 특성 관찰
한국진공학회 학술발표회초록집
2007 .02
무손상 식각을 위한 Low energy high flux 중성빔의 형성에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2003 .08
중성빔 식각장치를 이용한 극미세 Si 패턴의 저손상 식각방법에 대한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2007 .08
자성 메모리를 위한 나노미터 크기의 자기터널접합 구조의 고밀도 플라즈마 식각
한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집
2005 .12
원자층 식각방법을 이용한, Contact Hole 내의 Damage Layer 제거 방법에 대한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2013 .08
Properties of HfSixOy/HfO₂ film as a various Annealing Temperature
한국진공학회 학술발표회초록집
2008 .08
범밀도함수론을 이용한 정방정계-HfO₂/Si의 계면 층 구조 연구
Applied Science and Convergence Technology
2009 .01
C4F8 가스를 이용한 식각 공정 플라즈마에서 첨가 가스(Ar, Kr)에 따른 플라즈마 특성 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Ar / CH₄ 혼합가스를 이용한 ITO 식각특성
한국진공학회 학술발표회초록집
1999 .07
Effects of N₂ Anneal on Electrical Properties of HfO₂ Film on Si Substrate
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Influence of O₂ Anneal on the Electrical Properties of HfO₂ thin Film on Si Substrate
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Low-Angle Forward Reflected 중성빔식각을 이용한 Aspect-Ratio-Dependent Etching 현상 제거
한국진공학회 학술발표회초록집
2006 .02
Cl₂/Ar를 이용한 Cr 박막의 반응성 이온 식각
한국진공학회 학술발표회초록집
2009 .02
실시간 광학탐침법을 이용한 중성 원자 농도 분포에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
1995 .06
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