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Korean Society for Precision Engineering 한국정밀공학회 학술발표대회 논문집 한국정밀공학회 2005년도 추계학술대회 논문요약집
발행연도
2005.10
수록면
591 - 594 (4page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

2005

Analysis of Ion Beam-Solid Interactions for Nano Fabrication
김흥배 ,  G. Hoble 한국정밀공학회 학술발표대회 논문집 2005.10 학술대회자료
“AMADEUS” Software for Ion Beam Nano Patterning and Characteristics of Nano Fabrication
김흥배 ,  G. Hoble ,  A. Lugstein 외 2명 한국정밀공학회 학술발표대회 논문집 2005.10 학술대회자료

초록· 키워드

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Ion beam processing is one of the key technologies to realize maskless and resistless sub 50nm nano fabrication. Unwanted effects, however, may occur since an energetic ion can interact with a target surface in various ways. Depending on the ion energy, the interaction can be swelling, deposition, sputtering, re-deposition, implantation, damage, backscattering and nuclear reaction. Sputtering is the fundamental mechanism in ion beam induced direct patterning. Re-deposition and backscattering are unwanted mechanisms to avoid. Therefore understanding of ion beam-solid interaction should be advanced for further ion beam related research. In this paper we simulate some important interaction mechanisms between energetic incident ions and solid surfaces and the results are compared with experimental data. The simulation results are agreed well with experimental data.
#Ion Beam(이온빔) #Sputtering(스퍼터링) #Re-deposition(재증착) #Diffuse Emission(확산방출) #Backscattering(후방산란)

목차

ABSTRACT
1. INTODUCTION
2. SPUTTERING
3. EMISSION OF SPUTTERED PARTICLES
4. BACKSCATTERING
5. CONCLUSION
REFERENCES

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