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Ar 중성빔을 이용한 ZrO₂ 원자 층 식각
한국진공학회 학술발표회초록집
2009 .02
Ar 중성빔을 이용한 HfO₂ 원자 층 식각
한국진공학회 학술발표회초록집
2007 .08
SiO₂ 식각을 위한 low angle forward reflected neutral beam 식각 system에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2002 .02
C4F8/Ar 플라즈마를 이용한 SiO2 원자층 식각에서 활성종 구성 비율에 따른 식각 특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
C4F8/Ar 플라즈마를 이용한 SiO2 원자층 식각의 SiO2 두께 변화 해석 모델
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
나노소자 식각을 위한 low angle forward reflected neutral beam에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2001 .02
자성 메모리를 위한 나노미터 크기의 자기터널접합 구조의 고밀도 플라즈마 식각
한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집
2005 .12
원자층 식각방법을 이용한, Contact Hole 내의 Damage Layer 제거 방법에 대한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2013 .08
중성빔 식각과 중성빔 원자층 식각기술을 이용한 TiN/HfO2 layer gate stack structure의 저 손상 식각공정 개발
한국진공학회 학술발표회초록집
2010 .02
Ne 중성빔을 이용한 InP의 원자층 식각에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2007 .08
Electrical characteristics of multi-stacked ZrO₂/Al₂O₃/ZrO₂ capacitors
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
C4F8 가스를 이용한 식각 공정 플라즈마에서 첨가 가스(Ar, Kr)에 따른 플라즈마 특성 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
나노소자 식각을 위한 low angle forward reflected neutral beam에서의 reflector 효과
한국진공학회 학술발표회초록집
2001 .07
Ar / CH₄ 혼합가스를 이용한 ITO 식각특성
한국진공학회 학술발표회초록집
1999 .07
Cl₂/Ar를 이용한 Cr 박막의 반응성 이온 식각
한국진공학회 학술발표회초록집
2009 .02
Growth, Structure, and Stability of Ag on Ordered ZrO2(111) Films
한국진공학회 학술발표회초록집
2014 .02
Effect of the Top Electrode Materials on the Electrical Property of the ZrO₂/Al₂O₃/ZrO₂-based Capacitors
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
Analysis of Electron Conduction Behaviors of ZrO₂/Al₂O₃/ZrO₂ Dielectrics
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Preparation of ZrO₂ layer on Si(111)
한국진공학회 학술발표회초록집
2004 .08
SiO₂ 원자층 식각에서 인가 전력 공정 윈도우와 플라즈마 활성종 간 상관관계
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
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