DEPOSITION OF A-SIC : H FILMS ON AN UNHEATED SI SUBSTRATE BY LOW FREQUENCY (50㎐) PLASMA Cvd

M. Shimozuma ,  K. Iba ,  agi 외 5명

한국표면공학회지

1996 .12

Deposition of Plasma Polymerized Films on Silicon Substrates Using Plasma Assisted CVD Method For Low Dielectric Application

M. C. Kim ,  S. H. Cho ,  J. H. Boo 외 4명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2001 .06

LOW TEMPERATURE DEPOSITION OFSIO_x FILMS BY PLASMA-ENHANCED CVD USING 100 ㎑ GENERATOR

Nobuyuki Kakinoki ,  Takenobu Suzuki ,  Osamu Takai

한국표면공학회지

1996 .12

Control of plasma CVD films containing group IV nanoparticles

Masaha ,  u Shi ,  atani 외 8명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .11

EFFECT OF SUBSTRATE BIAS ON THE DIAMOND GROWTH USING MICROWAVE PLASMA CVD

Yukihi ,  o SAKAMOTO ,  Matsufumi TAKAYA

한국표면공학회지

1999 .06

Plasma-Induced Subsurface Reactions in Plasma CVD Process

Hi ,  oshi Fujiyama ,  Masano 외 2명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2008 .06

DC Plasma CVD 법에 의한 다이아몬드의 성장에 관한 연구

이상현 ,  예길촌 ,  백운승 외 2명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

1993 .11

Deposition Profile Control of Carbon Films on the Surface of Fine Structures using Plasma CVD

Kzuno ,  i Koga ,  Takuya Nomu 외 10명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2010 .11

고주파 플라즈마 CVD에 의한 저 압력에서의 다이아몬드 막의 성장

具孝根 ,  朴相鉉 ,  朴在潤 외 1명

전기학회논문지 C

2001 .02

Diamond Smooth Film Deposition by AC Discharged Plasma CVD

Sie-Young Choi ,  Byung-Ki Sohn

ICEIC : International Conference on Electronics, Informations and Communications

1991 .08

Diamond Smooth Film Deposition by AC Discharged Plasma CVD

Sie Young Choi ,  Byung Ki Sohn

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1991 .01

플라즈마 CVD를 이용한 탄소나노튜브의 성장

방윤영 ,  장원석

한국정밀공학회 학술발표대회 논문집

2005 .06

CVD 다이아몬드 박막 기판의 방열 특성

임종환 ,  강찬형

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2015 .11

EFFECTS OF SUBSTRATE TEMPERATURE ON PROPERTIES OF FLUORINE CONTAINED SILICON OXIDE FILMS PREPARED BY MICROWAVE PLASMA-ENHANCED CVD

Nobuhisa Sugimoto ,  Atsushi Hozumi ,  Osamu Takai

한국표면공학회지

1996 .10

CVD Pt 박막의 증착과 특성 분석

이종명 ,  황철성 ,  석창길 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

1997 .01

Mechanical and Adhesive Properties of Plasma CVD Coatings on Various Substrates using Scratch Test

Daecheol Ko ,  Jungmin Lee ,  Byungmin Kim

기타자료

2006 .09

CVD 기술동향

송주호

전자공학회지

2001 .08

RP-CVD에 의한 비정질 실리콘 박막의 특성 ( Characterization of a-Si : H films deposited by a remote plasma CVD )

황정태 ,  정창영 ,  정관수 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1989 .11

Remote Plasma Enhanced CVD에 의한 수소화된 비정질 실리콘 박막의 제작 및 특성 연구 ( Fabrication and Characterization of a-Si : H Films by a Remote Plasma Enhanced CVD )

양영식 ,  윤여진 ,  장진

대한전자공학회 학술대회

1987 .07