EFFECT OF SUBSTRATE BIAS ON THE DIAMOND GROWTH USING MICROWAVE PLASMA CVD

Yukihi ,  o SAKAMOTO ,  Matsufumi TAKAYA

한국표면공학회지

1999 .06

LOW TEMPERATURE DEPOSITION OFSIO_x FILMS BY PLASMA-ENHANCED CVD USING 100 ㎑ GENERATOR

Nobuyuki Kakinoki ,  Takenobu Suzuki ,  Osamu Takai

한국표면공학회지

1996 .12

FE Properties of Carbon Nitride Prepared by Microwave Plasma CVD

Shunichi ,  o Komizo ,  Yukihi 외 2명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2008 .06

LOW TEMPERATURE DIAMOND GROWTH USING MICROWAVE PLASMA CVD

Yukihi ,  o SAKAMOTO ,  Matsufumi TAKAYA 외 1명

한국표면공학회지

1996 .10

Microwave Plasma CVD로 제조한 다이아몬드 박막의Morphology에 관한 연구

박영수 ,  김성훈 ,  이조원

한국재료학회 학술발표대회

1993 .01

Deposition of Plasma Polymerized Films on Silicon Substrates Using Plasma Assisted CVD Method For Low Dielectric Application

M. C. Kim ,  S. H. Cho ,  J. H. Boo 외 4명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2001 .06

DEPOSITION OF A-SIC : H FILMS ON AN UNHEATED SI SUBSTRATE BY LOW FREQUENCY (50㎐) PLASMA Cvd

M. Shimozuma ,  K. Iba ,  agi 외 5명

한국표면공학회지

1996 .12

새로운 CVD 방법에 의하여 제작된 실리콘 박막의 특성 연구 ( Characterization of Silicon Thin Films Prepared by New CVD Technique )

김성철 ,  이승규 ,  정창영 외 5명

대한전자공학회 학술대회

1989 .07

Effects of Source Gas for Preparation of Carbon Nitride Using Microwave Plasma CVD

Masatoshi Inoue ,  Yukihi ,  o Sakamoto 외 1명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2008 .06

Synthesis of Carbon Nitride Films by Dual Microwave Plasma Source CVD

Osamu Ikai ,  Takayoshi Kiguchi ,  Ma 외 4명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .11

Characterization of Silicon Oxynitride Film by Plasma CVD

Yung Kwon Sung

KITE JOURNAL OF ELECTRONICS ENGINEERING

1992 .01

LOW TEMPERATURE DEPOSITION OF SILICON OXIDE FILMS BY UV-ASSOSTED RF PLASMA-ENHANCED CVD

Atsushi Hozumi ,  Nobuhisa Sugimoto ,  Hi 외 2명

한국표면공학회지

1996 .12

PREPARATION OF SILICON OXIDE FILMS WITH HIGH WATER REPELLENCY BY RF PLASMA-ENHANCED CVD

Hinzumi ,  Atsushi ,  Sekoguchi 외 6명

Fabrication and Characterization of Advanced Materials

1995 .01

EVALUATION OF WATER REPELLENCY FOR SILICON OXIDE FILMS PREPARED BY RF PLASMA-ENTHANCED CVD

Hi ,  oki Sekoguchi ,  Atsuhi Hozumi 외 2명

한국표면공학회지

1996 .12

NITROGEN DOPED DIAMOND LIKE CARBON FILM SYNTHESIZED BY MICROWAVE PLASMA CVD

Ryoichi URAO ,  Osamu HAYATSU ,  Toshihi 외 2명

한국표면공학회지

1996 .10

SiH₄-N₂ 혼합가스를 사용한 플라즈마 CVD 실리콘질화막의 堆積과 電氣的 特性

成英権 ,  申東烈 ,  朴贊元

전기학회논문지

1986 .08

SiHCl 와 O을 이용한 원자층 증착법에 의해 제조된 실리콘 산화막의 특성

이원준 ,  이주현 ,  한창희 외 3명

한국재료학회지

2004 .01

Laser CVD SiN막의 전기적 특성

김용우 ,  김상욱 ,  박종욱 외 2명

대한전기학회 학술대회 논문집

1990 .11

CO₂ Laser-induced CVD법에 의한 Silicon 박막 및 p-n접합 Silicon제작

최원국 ,  정광호 ,  김웅

대한전기학회 학술대회 논문집

1989 .11

Deposition Profile Control of Plasma CVD Films on Nano-patterned Substrates

Masaha ,  u Shi ,  atani

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2008 .06