Etching Mechanism of Indium Tin Oxide Thin Films using Cl2/HBr Inductively Coupled Plasma

김성일 ,  권광호

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2009 .01

HBr/O2 유도결합 플라즈마를 이용한 폴리실리콘 건식식각

범성진 ,  송오성 ,  이혜영 외 1명

전기전자재료학회논문지

2004 .01

Cl₂/HBr,Cl₂/N₂ 평판형 유도결합 플라즈마를 이용한 식각 공정시 발생하는 결함의 거동에 관한 연구

이영준 ,  황순원 ,  이주욱 외 2명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

1998 .05

ICP를 이용한 Ar/Cl₂/BCl₃ 플라즈마에서 PZT 식각 특성

안태현 ,  김경태 ,  이영희 외 3명

대한전기학회 학술대회 논문집

1999 .11

병리학적 관찰을 통한 HBr의 연소 독성에 관한 연구

조남욱 ,  이인구 ,  최재범 외 2명

한국화재소방학회 학술대회 논문집

2012 .01

Cl2/Ar 유도 결합 플라즈마에 의한 gold 박막의 식각특성

장윤성 ,  김동표 ,  김창일 외 2명

전기전자재료학회논문지

2002 .01

HBr/Ar/CHF3 혼합가스를 이용한 ZnO 박막의 유도결합 플라즈마 식각

김문근 ,  함용현 ,  권광호 외 1명

전기전자재료학회논문지

2010 .01

Cl/HBr/O 고밀도 플라즈마에서 비정질 실리콘 게이트 식각공정 특성

이원규

화학공학

2009 .01

SiO₂ 식각 특성 개선을 위한 E-ICP와 ICP 식각 비교

정재성 ,  김진우 ,  라상호 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1999 .11

Cl2 / Ar 가스 플라즈마에 O2 첨가에 따른 Pt 식각 특성 연구 ( The Study on the Etching Characteristics of Pt Thin Film by O2 Addition to Cl2 / Ar Gas Plasma )

김창일 ,  권광호

전자공학회논문지-D

1999 .05

유도결합형 BCl3/Ar 플라즈마를 이용한 Al2O3 박막의 식각 특성

김용근 ,  권광호

전기전자재료학회논문지

2011 .01

Ar/Cl2 혼합가스를 이용한 Ba_2Ti_9O_20(BTO) 박막의 유도결합 플라즈마 식각

김용근 ,  이현우 ,  권광호

전기전자재료학회논문지

2011 .01

CF4/Cl2/Ar 유도 결합 플라즈마에 의한 gold 박막의 식각특성

장윤성 ,  김동표 ,  김창일 외 1명

전기전자재료학회논문지

2003 .01

Cl2 / Ar 유도 결합 플라즈마에서 Pt 박막 식각시 N2 가스 첨가 효과 ( The Effect of Additive N2 Gas In Pt Film Etching Using Inductively Coupled Cl2 / Ar Plasmas )

유재흥 ,  김남훈 ,  장의구 외 1명

전자공학회논문지-SD

2000 .07

N₂ 가스를 첨가한 Cl₂/Ar 플라즈마에 의해 식각된 ZnO 박막의 식각 특성

허경무 ,  박정수 ,  주영희 외 2명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2009 .10

DNA분석을 통한 HBr의 연소독성에 관한 연구

이인구 ,  조남욱

한국가스학회 학술대회논문집

2013 .05

Ar/CF4/Cl2 플라즈마에 의한 CeO2 박막의 식각 특성 연구

장윤성 ,  김동표 ,  김창일 외 1명

전기전자재료학회논문지

2002 .01

Metal 게이트 전극을 위한 TiN 박막의 건식 식각 특성

엄두승 ,  우종창 ,  박정수 외 1명

한국표면공학회지

2009 .08

악취유발물질의 발생 억제를 위한 HBR의 성능 평가

안치규 ,  김영미 ,  이민우 외 3명

대한환경공학회 학술발표논문집

2006 .12

Ar/Cl₂ 중성빔 식각에 의한 GaAs의 식각손상의 감소에 대한 고찰

민경석 ,  박병재 ,  이형철 외 1명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2005 .05