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Electron Cyclotron Resonance N₂O-플라즈마 산화를 이용한 열산화막의 신뢰성 향상
전기학회논문지
1998 .08
다결정 실리콘 박막트랜지스터를 위한 저온 Electron Cyclotron Resonance N₂O-플라즈마 산화
전기학회논문지
1998 .09
Electron Cyclotron Resonance Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition 에 의한 상온 실리콘 산화막 형성시 질소 첨가가 절연막의 특성에 미치는 영향 ( Effects of Nitrogen Addition on the Dielectric Characteristics of Room Temperature Silicon Oxide Thin Films Prepared by Electron Cyclotron Resonance Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition )
전자공학회논문지-A
1994 .11
전자공명을 이용한 저온 플라즈마 식각에 관한 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
1992 .07
전자 공명을 이용한 저온 플라즈마 식각에 관한 연구
전기학회논문지
1993 .03
Electrical properties of lanthanum hafnium oxide thin films deposited by electron cyclotron resonance atomic layer deposition
한국재료학회 학술발표대회
2007 .01
ECR 플라즈마에 의한 알루미늄 질화처리시 표면조도의 영향
한국표면공학회지
1991 .12
Formation of β-SiC By Carburization of Si ( 100 ) Surface at 600 C using ultra-High Vacuum Electron Electron Cyclotron Resonance Chemical Vapor Deposition
대한전자공학회 학술대회
1997 .01
EFFECT OF THE ROUGHNESS OF SUBSTRATE SURFACE ON LOW-TEMPERATURE SILICON EPITAXIAL GROWTH
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
전자 싸이클로트론 공명 플라즈마 화학 증착법에 의한 실리콘 질화막 형성 및 특성 연구
한국표면공학회지
1992 .12
Fabrication of Low Temperature Si Pn Diode by Ultrahigh Vacuum Electron Cyclotron Resonance Chemical Vapor Deposition
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
초고진공 전자 사이클로트론 공명 화학 기상증착장치의 제작과 수소 플라즈마를 이용한 실리콘 기판 표면 세정화 ( Manufacturing of Ultrahigh Vacuum Electron Cyclotron Resonance Chemical Vapor Deposition Reactor and Si Wafer Surface Cleaning by Hydrogen Plasma )
전자공학회논문지-A
1994 .04
Oxidation of Single Crystal Silicon and Strained Si on Relaxed Si1-xGex Buffer Layer by Electron Cyclotron Resonance
대한전자공학회 학술대회
1998 .01
플라즈마 집속 전자빔을 이용한 SKD11 소재의 표면조도 특성
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2015 .05
Raman Scattering Study of InGaN Grown by Ion-Removed Electron Cyclotron Resonance MBE on ( 001 ) Al2O3
대한전자공학회 학술대회
1997 .01
산소 유량별 플라즈마 방출광원 세기에 따른 전자온도 진단과 산화주석박막 특성연구
한국표면공학회지
2016 .02
Direct Lithography on Hydrogen-Terminated Silicon Surface Using Two-Dimensional Hydrogen Analysis
International Conference on Electronics, Informations and Communications
1998 .01
Laser-Induced Plasma Spectroscopy Measurement on Surface Roughness in Surface Treatment of Titanium Alloys
한국기계가공학회지
2020 .02
Temperature Monitoring of Silicon Wafer Surface Exposed to Plasma Discharge
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2009 .05
A Study on the Simulation Model of the Surface Roughness for Turning Process
한국생산제조학회 학술발표대회 논문집
2000 .10
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