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논문 기본 정보

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한국전기전자재료학회 Transactions on Electrical and Electronic Materials Transactions on Electrical and Electronic Materials 제16권 제2호
발행연도
2015.1
수록면
62 - 64 (3page)

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We have investigated zinc tin oxide (ZTO) thin films under various silicon ratios. ZTO TFTs were fabricated by solutionprocessing with the bottom gate structure. Furthermore, annealing process was performed at different temperaturesin various annealing conditions, such as air, vacuum and wet ambient. Completed fabrication of ZTO TFT, and theperformance of TFT has been compared depending on the annealing conditions by measuring the transfer curve. In addition, structure in ZTO thin films has been investigated by X-ray diffraction spectroscopy (XRD) and Scanningelectron microscope (SEM). It is confirmed that the electrical performance of ZTO TFTs are improved by adoptingoptimized annealing conditions. Optimized annealing condition has been found for obtaining high mobility.

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