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한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 전기전자재료학회논문지 제18권 제2호
발행연도
2005.1
수록면
116 - 119 (4page)

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Al doped ZnO thin films (ZnO:Al) were deposited on poly carbonate (PC) substrate by rf magnetron sputtering. In addition, the electrical, optical properties of the films prepared at various conditions were investigated. As the sputter power increased, the resistivity of ZnO:Al films decreased, regardless of substrate types. However, the resistivity of the films increased with the sputter pressure. The ZnO:Al films were increasingly dark gray colored as the sputter power increased, resulting in the loss of transmittance. High quality films with resistivity as low as 1.43×10-4 Ω-cm and transmittance over 80 % have been obtained by suitably controlling the deposition parameters.
#ZnO #TCO #RF sputtering #PC substrate #Electrical property #Optical property

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참고문헌 (3)

참고문헌 신청
/ 1991. / Heat Treatment of RF Sputtered and Ga-doped Zinc Oxide Thin Films google schola / 1994. / Effect of annealing on electrical and optical properties of RF magnetron sputtered indium tin oxide films 247 : 201 ~ google schola / 2001. / Electrical and mechanical properties of ceramics J. of KIEEME 15 : 10 ~ google schola

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