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논문 기본 정보

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학술대회자료
저자정보
김경환 (경원대학교 전기정보공학과) 조범진 (경원대학교 전기정보공학과) 금민종 (경원대학교 전기정보공학과)
저널정보
한국반도체디스플레이기술학회 한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회 한국반도체및디스플레이장비학회 2006년도 춘계학술대회
발행연도
2006.1
수록면
164 - 167 (4page)

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In this paper, we prepared Al doped ZnO thin films by using facing targets sputtering method. Al doped ZnO thin film was deposited with different working pressure on flexible substrate. We prepared Al doped ZnO thin film at room temperature, because the flexible substrate has weak thermal resistance. From the results, we could obtain thin film with a resistivity of $8.4{\times}10^{-4}{\Omega}cm$, an average transmittance of over 80% and a film thickness of 200nm.

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