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자료유형
학술대회자료
저자정보
Zhang, Mi (BOE Technology Group CO., LTD) Xue, Jian She (BOE Technology Group CO., LTD) Wang, Wei (BOE Technology Group CO., LTD) Park, Chun-Bae (BOE Technology Group CO., LTD) Koh, Jai-Wan (BOE Technology Group CO., LTD) Zhang, Zhi-Min (Institute of Computing Technology of the Chinese Academy of Sciences)
저널정보
한국정보디스플레이학회 한국정보디스플레이학회 International Meeting 한국정보디스플레이학회 2008년도 International Meeting on Information Display
발행연도
2008.1
수록면
1,269 - 1,271 (3page)

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We find some array mura are caused by S/D bridge or channel open in 4 mask process. The gray tone PR thickness non-uniformity is the main reason of these defects. By the adjustment of exposure and dry etch parameters, S/D bridge and channel open ratio drops by 10.87%.
#4 mask #multiple etching #photosensitive resist #remain #over etch

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