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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2010.1
- 수록면
- 6 - 10 (5page)
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Crystallization of 100 nm thick amorphous silicon (a-Si) films on glass substrates was carried out by using a double laser irradiation method. Depending on a-Si deposition method or glass types, the quality of crystallized silicon film varies significantly. For a-Si films deposited with high concentration of impurities, large grains or high crystallinity can not be achieved. Crystallization with different a-Si deposition methods confirmed that for the polycrystallization of a-Si films on glass substrates, controlling the impurity density during substrate preparation is critical.
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