이온빔을 이용한 마이크로/나노 가공: 모델링

김흥배; Gehard Hobler

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자료유형: 학술저널

저자정보: 김흥배 Gehard Hobler

저널정보: Korean Society for Precision Engineering Journal of the Korean Society for Precision Engineering 한국정밀공학회지 Vol.24 No.8

발행연도: 2007.8

수록면: 108 - 115 (8page)

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3D nano-scale manufacturing is an important aspect of advanced manufacturing technology. A key element in ability to view, fabricate, and in some cases operate micro-devices is the availability of tightly focused particle beams, particularly of photons, electrons, and ions. The use of ions is the only way to fabricate directly micro-/ nano-scale structures. It has been utilized as a direct-write method for lithography, implantation, and milling of functional devices. The simulation of ion beam induced physical and chemical phenomena based on sound mathematical models associated with simulation methods is presented for 3D micro-/nanofabrication. The results obtained from experimental investigation and characteristics of ion beam induced direct fabrication will be discussed.

#Focused Ion Beam(집속이온빔) #Nanofabrication(나노가공) #Simulation(전산해석) #Redeposition(재중착) #Sputtering(스퍼터링)

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