A Brief Review of Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition of Si₃N₄

You Jin Ji ,  Ki Seok Kim ,  Ki Hyun Kim 외 2명

Applied Science and Convergence Technology

2019 .09

초고주파 (162 MHz) 다중 분할 전극 플라즈마 소스를 이용한 silicon nitride PEALD 공정연구

지유진 ,  김기석 ,  김기현 외 5명

한국진공학회 학술발표회초록집

2019 .08

Plasma enhanced atomic layer deposition of silicon nitride using a VHF (162 MHz) plasma source

You Jin Ji ,  Ki Hyun Kim ,  Ki Seok Kim 외 5명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .02

Reactions between silicon precursors and surface sites during atomic layer deposition of silicon nitride

Luchana L. YUSUP ,  Jae-Min PARK ,  Ti 외 5명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

Plasma enhanced atomic layer deposition of silicon nitride films using a VHF (162 ㎒) multi-tile push-pull plasma source

You Jin Ji ,  Ki Hyun Kim ,  Ki Seok Kim 외 5명

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2020 .08

Low Temperature PECVD process for SiNx/Organic Multilayer Thin Film Encapsulation

Hyung June Ahn ,  Sang Heon Yong ,  Sun Jung Kim 외 3명

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2017 .02

Plasma Optical Signal Analysis for SiNx Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Processes

Yooncheol Shin ,  Sun Jung Kim ,  Sangin Lee 외 1명

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2019 .08

Formation of Graphene-Seeds on Silicon Nitride Using Chemical Vapor Deposition

강도연 ,  박세근 ,  이준영 외 4명

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2015 .02

Plasma-enhanced atomic layer deposition of silicon nitride thin films using bis(diethylamino)silane

Jae-Min PARK ,  Yong-Ho NOH ,  June HWANG 외 1명

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2016 .08

Effects of Redeposition on Low-Temperature Plasma Enhanced-Atomic Layer Deposition of Silicon Nitride Thin films for the Encapsulation layer of flexible OLEDs

김지민 ,  김성민 ,  김형준

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2018 .02

Correlation Study between Optical Emission Spectroscopy Signals and Silicon Nitride Film Properties in Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Processes

Seunghun Han ,  Sun Jung Kim ,  Heeyeop Chae

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2020 .02

Prediction of Silicon Nitride Film Properties by the Analysis of Optical Emission Spectroscopy Signals in Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Processes

Sun Jung Kim ,  Seunghun Han ,  Heeyeop Chae

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2020 .02

Correlation Analysis of Plasma Properties and Film Properties using Optical Emission Spectroscopy in Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Processes of Silicon Nitride

Seunghun Han ,  Byung hyun Oh ,  Heeyeop Chae

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2020 .08

Environmental reliability and barrier properties of SiOx, SiNx thin film by roll-to-roll PECVD system

Won Jae Lee ,  Tae-Yeon Cho ,  Sung-Hoon Choa 외 1명

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2019 .08

Silicon nitride deposition by VHF (162 MHz)-PECVD using a multi-tile push-pull plasma source

Ki Seok KIM ,  Albe ,  t Roge 외 2명

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2016 .08

Effect of plasma properties on characteristics of silicon nitride film deposited by PECVD process at low temperature

Jeon G. HAN ,  Jun S. LEE ,  Bibhuti B. SAHU 외 3명

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2016 .08

Al₂O₃/SiNx 패시베이션 막에서의 수소 이동 메커니즘 및 열처리 효과

현지연 ,  강동균 ,  이승훈 외 5명

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2018 .02

Synthesis of SiNx:H films in PECVD using RF/UHF hybrid sources

K. S. Shin ,  B. B. Sahu ,  J. S. Lee 외 3명

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2015 .08

Self-rectifying, forming-free 및 ultralow power 특성을 갖는 GaO/SiNx:O 기반 저항변화 메모리 특성연구

이태호 ,  박주현 ,  김경헌 외 3명

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2015 .02

Behaviour of nitrided layer formed on S45C carbon steel during gaseous nitriding

손석원 ,  유광춘 ,  이원범

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2016 .02