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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 저널정보
- 한국재료학회 Fabrication and Characterization of Advanced Materials Fabrication and Characterization of Advanced Materials 제2권 제3호
- 발행연도
- 1995.1
- 수록면
- 963 - 968 (6page)
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Silicon oxide films contained fluoro-alkyl functions(FAFs ; $CF_3$, $CF_2$ and CF functions) were prepared on the polycarbonate(PC), glass and Si substrates by rf plasma-enhanced CVD(PECVD). The fluoro-alkyl silanes(FASs ; $CF_3(CF_2)nCH_2CH_2Si(OCH_3)_3, \;n=0, 5, 7)$ were used as raw materials. The substrate temperature during deposition was around $50^{\circ}C$. The obtained films had good water repellency. The maximum contact angle for a water drop was 107 degrees. The transmittance of the PC substrate was improved by the coating form 87% to 90%. These films also have a function as an antireflective coating.
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