PREPARATION OF SILICON OXIDE FILMS WITH HIGH WATER REPELLENCY BY RF PLASMA-ENHANCED CVD

Hinzumi ,  Atsushi ,  Sekoguchi 외 6명

Fabrication and Characterization of Advanced Materials

1995 .01

EFFECTS OF SUBSTRATE TEMPERATURE ON PROPERTIES OF FLUORINE CONTAINED SILICON OXIDE FILMS PREPARED BY MICROWAVE PLASMA-ENHANCED CVD

Nobuhisa Sugimoto ,  Atsushi Hozumi ,  Osamu Takai

한국표면공학회지

1996 .10

Silicon Compounds Grafting on the Fiber for Water-repellency by Atmospheric Plasma Process

Young-Yeon Ji ,  Tak Jeong ,  Sang-Sik Kim

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2006 .10

DEPOSITION OF A-SIC : H FILMS ON AN UNHEATED SI SUBSTRATE BY LOW FREQUENCY (50㎐) PLASMA Cvd

M. Shimozuma ,  K. Iba ,  agi 외 5명

한국표면공학회지

1996 .12

Characteristics of Ultra Water-repellent Films Prepared by Capacitively-coupled Plasma CVD

No ,  ifumi Shimazu ,  Naoki Namba 외 3명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2008 .06

새로운 CVD 방법에 의하여 제작된 실리콘 박막의 특성 연구 ( Characterization of Silicon Thin Films Prepared by New CVD Technique )

김성철 ,  이승규 ,  정창영 외 5명

대한전자공학회 학술대회

1989 .07

LOW TEMPERATURE DEPOSITION OF SILICON OXIDE FILMS BY UV-ASSOSTED RF PLASMA-ENHANCED CVD

Atsushi Hozumi ,  Nobuhisa Sugimoto ,  Hi 외 2명

한국표면공학회지

1996 .12

Crystallinity of ZnO Thin Films Prepared by RF Plasma CVD

Kenta ,  o Suzuki ,  Takahi 외 4명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2008 .06

XPS STUDY ON SN-DOPED DLC FILMS PREPARED BY RF PLASMA-ENHANCED CVD

Y. Inoue ,  T. Komoguchi ,  H. Nakata 외 1명

한국표면공학회지

1996 .10

Characterization of Silicon Oxynitride Film by Plasma CVD

Yung Kwon Sung

KITE JOURNAL OF ELECTRONICS ENGINEERING

1992 .01

LOW TEMPERATURE DEPOSITION OFSIO_x FILMS BY PLASMA-ENHANCED CVD USING 100 ㎑ GENERATOR

Nobuyuki Kakinoki ,  Takenobu Suzuki ,  Osamu Takai

한국표면공학회지

1996 .12

RF Plasma CVD에 의한 TMDSO/O₂의 합성과 박막의 특성에 관한 연구

김인성 ,  김귀열 ,  강동필 외 2명

대한전기학회 학술대회 논문집

1991 .11

RF magnetron plasma CVD에 의한 DLC 박막의 합성

김성영 ,  이재성

한국표면공학회 학술발표회 초록집

1994 .10

RF플라즈마 CVD법에 의한 Diamond합성

박상현 ,  이덕출

대한전기학회 학술대회 논문집

1989 .07

Plasmas-Surface-treatment of nylon fiber for water-repellency improvement by low pressure RF plasma discharge processing

지영연

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2006 .04

고주파 플라즈마 CVD에 의한 저 압력에서의 다이아몬드 막의 성장

具孝根 ,  朴相鉉 ,  朴在潤 외 1명

전기학회논문지 C

2001 .02

Deposition of Plasma Polymerized Films on Silicon Substrates Using Plasma Assisted CVD Method For Low Dielectric Application

M. C. Kim ,  S. H. Cho ,  J. H. Boo 외 4명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2001 .06

CO₂ Laser-induced CVD법에 의한 Silicon 박막 및 p-n접합 Silicon제작

최원국 ,  정광호 ,  김웅

대한전기학회 학술대회 논문집

1989 .11

enthanced device performance of organic solar cells containing semiconducting polythiophene derivatives with alkylthiophene side chain

차효정

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2010 .10

SiHCl 와 O을 이용한 원자층 증착법에 의해 제조된 실리콘 산화막의 특성

이원준 ,  이주현 ,  한창희 외 3명

한국재료학회지

2004 .01