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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
백지민 (경북대학교) 김대현 (경북대학교)
저널정보
한국센서학회 센서학회지 센서학회지 제31권 제1호
발행연도
2022.1
수록면
41 - 44 (4page)

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In this study, we have fabricated and characterized vertical double-gate (DG) InGaAs tunnel field-effect-transistors (TFETs) with Al2O3/HfO2 = 1/5 nm bi-layer gate dielectric by employing a top-down approach. The device exhibited excellent characteristics including a minimum subthreshold swing of 60 mV/decade, a maximum transconductance of 141 μS/μm, and an on/off current ratio of over 103 at 20o C. Although the TFETs were fabricated using a dry etch-based top-down approach, the values of DIBL and hysteresis were as low as 40 mV/V and below 10 mV, respectively. By evaluating the effects of constant voltage and hot carrier injection stress on the vertical DG InGaAs TFET, we have identified the dominant charge trapping mechanism in TFETs.

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