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This review article gives a comprehensive compilation of recent developments in low temperature deposited poly Si flms, also known as microcrystalline silicon. The development of various ion energy suppression techniques for plasma enhanced chemical vapour deposition and ionless depositions such as HWCVD and expanding thermal plasma, and their effect on the material and solar cell efficiencies are described. A correlation between ef.ciency and the two most important process parameters, i.e., growth rate and process temperature is carried out. Finally, the application of these poly Si cells in multijunction cell structures and the best efficiencies worldwide by various deposition techniques are discussed.

목차

Abstract

Ⅰ.서론

Ⅱ.다결정 실리콘 박막 저온 증착 기술

Ⅲ.실리콘 박막 태양전지 기술

Ⅳ.결론

참고문헌

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