메뉴 건너뛰기
.. 내서재 .. 알림
소속 기관/학교 인증
인증하면 논문, 학술자료 등을  무료로 열람할 수 있어요.
한국대학교, 누리자동차, 시립도서관 등 나의 기관을 확인해보세요
(국내 대학 90% 이상 구독 중)
로그인 회원가입 고객센터 ENG
주제분류

추천
검색
질문

이용수

표지
📌
연구주제
📖
연구배경
🔬
연구방법
🏆
연구결과
AI에게 요청하기
추천
검색
질문

이 논문의 연구 히스토리 (20)

초록· 키워드

오류제보하기
Polycrystalline silicon(poly-Si) films are deposited on low temperature glass substrate by Hot-CVD(HWCVD). The structural properties of the poly-Si films are strongly dependent on the
temperature(T_w). The films deposited at high T_w of 2000℃ have superior crystalline proper average lateral grain sizes are larger than Iμm and there are no vertical grain boundaries. The Sill of the high T_w samples are naturally textured like pyramid shape. These large grain size and text surface are believed to give high current density when applied to solar cells. However, the pol films are structurally porous and contains high defect density, by which high concentration of C and O resulted within the films by air-penetration after removed from chamber.

목차

Abstract

1. 서론

2. 실험방법

3. 결과 및 고찰

4. 결론

참고문헌

참고문헌 (0)

참고문헌 신청

함께 읽어보면 좋을 논문

논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!

이 논문의 저자 정보

이 논문과 함께 이용한 논문

최근 본 자료

전체보기

댓글(0)

0

UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2009-563-018139265