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이용수
ABSTRACT
1. 서론
2. 이론적 연구
3. 수치해석
4. 결과 및 고찰
5. 결론
후기
참고 문헌
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고품질 질화물 반도체 박막 성장을 위한 반응로 구조 및 열적 조건에 관한 연구
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고품질 질화물 반도체 박막 성장을 위한 반응로 구조 및 열적 조건에 관한 연구
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2004 .12
일반좌표계를 사용한 모델 실린더내의 유체유동해석
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대구경 회전 증착에 관한 CVD 반응기 내부의 열물질 해석연구
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Thermal CVD 반응기 내부의 열 유동장에 대한 수치해석적 연구
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1998 .05
Numerical Study on Silicon CVD in Horizontal Reactors
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1993 .05
Numerical Study on Flow and Heat Transfer in a CVD Reactor with Multiple Wafers
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2018 .01
CVD 반응기 내에서의 유동장에 대한 샤워헤드 지름의 영향에 대한 수치적 연구
대한기계학회 춘추학술대회
2004 .04
Heat and Mass Transfer in Continuous CVD Reactors
Heat Transfer Conference
1998 .08
Ⅲ-Ⅴ족 MOCVD 공정의 열전달 및 필름 성장에 대한 연구
대한기계학회 춘추학술대회
2004 .04
[세션초청논문] Optimization of growth rate for Si in a planetary CVD reactor
대한기계학회 춘추학술대회
2019 .11
CVD 반응로 내부 회전 원판 주위의 유동 특성 연구 ( A Study on the Flow Characteristics over the Rotating Susceptor in CVD Reactor )
대한기계학회 춘추학술대회
2001 .01
수평 및 수직형 CVD 증착로의 실리콘 부착에 관한 수치해석 ( Numerical Analysis of Silicon Deposition in Horizontal & Vertical CVD Reactor )
대한기계학회 논문집 B권
2002 .03
CVD 반응기내 기체유동의 균일성 향상에 관한 수치적 연구
대한기계학회 춘추학술대회
2004 .08
Effects of Thermal Contact Resistance on Film Growth Rate in a Horizontal MOCVD Reactor
Journal of Mechanical Science and Technology
2005 .06
유입.유출구 크기 변화에 따른 CNT용 CVD 장비 내의 열 및 유동해석
반도체디스플레이기술학회지
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