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이용수
Abstract
1. 서론
2. 본론
3. 결론
감사의 글
[참고문헌]
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ICP를 이용한 Ar/Cl₂/BCl₃ 플라즈마에서 PZT 식각 특성
대한전기학회 학술대회 논문집
1999 .11
Ar/CF4/Cl2 플라즈마에 의한 CeO2 박막의 식각 특성 연구
전기전자재료학회논문지
2002 .01
CF4/Cl2/Ar 유도 결합 플라즈마에 의한 gold 박막의 식각특성
전기전자재료학회논문지
2003 .01
Cl2/CF4 플라즈마에 Ar, O2 첨가에 따른 PZT 박막의 식각 손상 개선 효과
전기전자재료학회논문지
2002 .01
Cl2/CF4/Ar 유도결합 플라즈마에 의해 식각된 SBT 박막의 표면 손상
전기전자재료학회논문지
2002 .01
Cl2/Ar 유도 결합 플라즈마에 의한 gold 박막의 식각특성
전기전자재료학회논문지
2002 .01
CF₄/Ar 플라즈마를 이용한 SBT 박막 식각에 관한 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
1999 .07
Ar/CF₄ 고밀도 플라즈마에서 (Ba, Sr)TiO₃ 박막의 식각 메카니즘
전기학회논문지 C
2000 .05
Cl2 / Ar 가스 플라즈마에 O2 첨가에 따른 Pt 식각 특성 연구 ( The Study on the Etching Characteristics of Pt Thin Film by O2 Addition to Cl2 / Ar Gas Plasma )
전자공학회논문지-D
1999 .05
Ar/CF₄ 고밀도 플라즈마에서 (Ba, Sr)TiO₃ 박막의 식각 매카니즘에 관한 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
1999 .07
CF₄ 플라즈마를 이용한 건식식각에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
1986 .12
CF4 플라즈마를 이용한 건식식각에 관한 연구 ( A study on dry etching process using CF4 Plasma )
대한전자공학회 학술대회
1986 .01
N₂ 가스를 첨가한 Cl₂/Ar 플라즈마에 의해 식각된 ZnO 박막의 식각 특성
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2009 .10
Etching characteristics of BST thin films using BCl₃/Cl₂/Ar plasma
대한전기학회 학술대회 논문집
2003 .10
Etching Characteristics of Au Thin Films using Inductively Coupled Cf4/Cl2/Ar Plasma
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2003 .01
Cl2 / Ar 유도 결합 플라즈마에서 Pt 박막 식각시 N2 가스 첨가 효과 ( The Effect of Additive N2 Gas In Pt Film Etching Using Inductively Coupled Cl2 / Ar Plasmas )
전자공학회논문지-SD
2000 .07
BCl₃/Cl₂/Ar 고밀도 플라즈마에서 (Ba, Sr)TiO₃ 박막의 식각 특성에 관한 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
1999 .11
Cl-based 플라즈마에 의한 YMnO3 박막의 식각 damage에 관한 연구
전기전자재료학회논문지
2003 .01
Ar/O₂ 비에 따른 PZT(30/70)/(70/30) 이종층 박막의 유전 특성
대한전기학회 학술대회 논문집
2003 .10
Cl2/Ar 플라즈마를 이용한 Al2O3 박막의 식각
전기전자재료학회논문지
2009 .01
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