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대한기계학회 대한기계학회 춘추학술대회 대한기계학회 2003년 추계학술대회논문집
발행연도
2003.11
수록면
1,816 - 1,821 (6page)

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The sapphire wafer for blue light emitting davice was manufactured by the implementation of the chemical and mechanical polishing pricess. The surface polishing of crystalline sapphire wafer was characterized by zeta petentoal measurement, The reduction process with the alkali slurry provides the surface chemical reaction with sapphire atorms, The-poly urethane pad also provides the frictional force to take out the chemically-reacted. The surface roughness was measured by the atomic force mieroscope and the crystalline quality was characterized by the double erystal X-ray diffraction analysis.

목차

Abstract

1.서론

2.CMP연마 메카니즘

3.실험방법

4.결과 및 고찰

5.결론

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